化学抛光
网友科普
化学抛光是通过化学试剂选择性溶解金属表面凸起区域实现整平的技术，其原理包含宏观抛光（去除数微米至数十微米级不平）和微观抛光（消除0.1～0.01μm级缺陷）两个阶段，通过形成氧化膜和溶解扩散层实现表面光泽化。该方法适用于不锈钢、铜合金及低碳钢零件，抛光液主要由硫酸、磷酸等腐蚀剂与氧化剂组成。工艺需精确控制温度（存在临界温度阈值）和时间，操作包含预处理、溶液调配、浸渍抛光及清洗步骤。化学抛光设备简单且效率高，可处理深孔及复杂结构件，但存在溶液再生困难、产生有害气体及效果弱于电解抛光等局限。金属表面在抛光过程中通过钝化氧化膜的动态平衡实现微观整平，铝材抛光时需控制硝酸浓度以平衡钝化与溶解作用。
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